Čestice Hafnium otporne na kiselinu

HAFNIUM čestice otporne na kiselinu visoki su - materijal za performanse razvijen posebno za ekstremna korozivna okruženja, na temelju visokog - čistoće metala Hafnium (veća od ili jednaka 99,9%) i napravljena putem napredne procesne tehnologije. Njegove izvrsne performanse u jakim kiselim medijima čine ga temeljnim zaštitnim materijalom u kemijskim, nuklearnim i drugim poljima. Najznačajnija značajka ovog materijala je njegova vrhunska otpornost na koroziju kiseline, koja može odoljeti eroziji snažnih oksidirajućih kiselina poput dušične kiseline, klorovodične kiseline, sumporne kiseline, pa čak i Aqua regia. Godišnja stopa korozije u 70% dušičnom kiselini je manja od 0,01 milimetra, a radni vijek može dostići više od 10 puta više od nehrđajućeg čelika. Istodobno, ima izvrsnu visoku temperaturnu stabilnost -, s topljenjem do 2233 stupnjeva C, a može održati strukturni integritet u koncentriranom kiselinom okoliša od 200 stupnjeva C, u osnovi izbjegavajući rizik od intergranularne korozije i lokalne perforacije. Pored toga, stroga kontrola kemijskog sastava (nečistoće poput željeza, nikla, kroma itd. Manje od 50 ppm) osigurava čistoću materijala u reakcijskom mediju, izbjegavajući katalitičko trovanje ili kontaminaciju proizvoda.

Proces proizvodnje čestica Hafnium otpornih na kiselinu započinje s pripremom visokih - čistoće Hafnium sirovina. Hafnijski spojevi visoke čistoće ekstrahiraju se iz ruda koje se pojavljuju na cirkonij hafnium co putem tehnologije ekstrakcije i odvajanja, a zatim se koristi postupak topljenja elektronske zrake (EBM) za dobivanje hafnijskih ingota s čistoćom veće od ili jednakim od 99,9%. Nakon toga, formiranje praha provodi se dehidrogenacijom hidrogenacije (HDH) ili metodama atomizacije plazme (PA): HDH metoda dobiva nepravilno oblikovane i visoke specifične čestice površinske površine kroz prihvatanje hidrogenacije, mehanički drobljenje i dehidrogenaciju vakuuma; PA zakon topi Hafnium elektrode u kapljice kroz luk u plazmi i hladi ih u sferne čestice, koje, iako skuplje, imaju bolju fluidnost i niži sadržaj kisika. Formirane čestice podvrgavaju se postupcima liječenja nakon - kao što su probir i ocjenjivanje, pranje kiseline i pasivacija, a konačno su pakirane u inertnu atmosferu kako bi se spriječilo zagađenje oksidacijom.

Proizvod ima širok raspon specifikacija i veličina, s rasponom veličine čestica 1 - 150 mikrona. Fini prah (1-45 µm) ili grubi prah (45-150 µm) može se pružiti u skladu s potrebama nanošenja; Morfologija može biti nepravilna (s većom specifičnom površinom, koja pogoduje vezivanju premaza) ili sferično (s dobrom fluidnošću, pogodnom za aditivnu proizvodnju); Sadržaj kisika može se kontrolirati ispod 800 ppm (konvencionalna stupnja) ili ispod 300ppm (ocjena vrhunske aplikacije). Svi proizvodi udovoljavaju zahtjevima za performanse za materijale otporne na kiselinu u međunarodnim standardima kao što je ASTM G48.

U polje primjene, čestice HAFNIUM otporne na kiselinu uglavnom se koriste u kemijskoj opremi protiv -, poput formiranja unutarnjih obloga za reaktore i elektrolitičke stanice tehnologijom toplinskog raspršivanja, izravno štiteći opremu od jakih kiselina poput nitrifikacije i klorinacije; U preradi nuklearnog goriva, komponente koje se koriste za proizvodnju spremnika za raspuštanje goriva otporne su na dvostruku koroziju od visoko temperaturne koncentrirane dušične kiseline i radioaktivnosti; U područjima zaštite okoliša i energije može se koristiti u scenarijima kao što su komponente filtracije za sustave za pročišćavanje kiselih otpadnih voda, anti - korozijske prevlake za bipolarne ploče gorivnih ćelija itd. Kako bi se poboljšala trajnost opreme u teškim okruženjima. Osim toga, u metalurškoj industriji može se koristiti i za dijelove koji zahtijevaju dugu - pojam otpornost na koroziju kiseline, poput košara za anodne košare i rijetkih dodataka za ukidanje metala.
 

Popularni tagovi: Čestice Hafnium otporne na kiselinu, Kineska kiselina otporna na čestice Hafnium Proizvođači, dobavljači, tvornica, legura tantaluma za komponente reaktora, Tantal za visokonaponske aplikacije, Tantal za istraživačku opremu, Tantal za primjenu toplinske otpornosti, Usluge obrade sirovina Tantalum, Tantal list za zrakoplovnu tehnologiju